一、项目简介：
      本团队研制开发了具有自主知识产权的“智能喷液雾化-多元共析化学气相沉积设备”及相应的“多类功能及结构薄膜制备技术”，适用于在一维（1D)、二维（2D)及三维（3D)大尺寸、异形工件或基体上使用化学气相沉积法制备各种功能/结构薄膜材料，能赋予工件更多的功能及更为优越的性能，扩大工件的应用范围，能为机械、微电子、光学、汽车、模具、电学及航空航天等领域提供需要的多种新型膜材料，适用范围广，安全性能高。 

二、目前项目所处阶段：
      本技术已达到工业化使用标准，适用于化学气相沉积法制备多类功能/结构薄膜，适用范围广，市场需求大、安全性能高。特别是研制的700mm*700mm*700mm类大尺寸碳化硅镀膜设备，已在相关的多家科研院所和高新技术企业成功推广应用。此类型大尺寸碳化硅镀膜设备在我国尚无资料报道，本成果打破发达国家的技术垄断，填补了我国在该领域的技术空白，经济效益显著。目前已与多家企业和科研院所有合作，并且生产的产品性能优异，均能够满足对方需求。 

三、该项目与现有技术或工艺比较所具有的优势：
      ＣＶＤ薄膜制备技术是８０年代后期出现的新技术，日本、德国、美国在该方面技术遥遥领先。目前我国在ＣＶＤ设备制备技术方面几乎是一片空白；目前市面上尚没有公司或企业出售ＣＶＤ相关设备；我国的科研人员对ＣＶＤ设备的了解，目前还停留在８０年代初期管式炉的层次上。该项目填补了国内在CVD设备技术方面的空白。
      搭载的“喷液雾化-多元共析液体原料供给系统”解决了以往CVD设备中固体原料蒸发罐供给系统在工业应用中无法长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气难题。能精准地控制多元化合物原料的各元素化学计量比，特别是能精准控制多元薄膜材料的化学成分，并能长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气，彻底解决原料浪费现象，是工业化应用必备的条件。
      搭载的“智能真空度控制系统”，能精准控制本设备腔体内的压强，并能将腔体真空度维持在100-1000 Pa之间的任意设定值，能保证工业生产时薄膜质量的精准控制。
      搭载的“智能操控系统”能实现能用电脑精准控制薄膜沉积过程中的每个动作，实现了全自动智能化操作，杜绝了人为操作出现的失误的情况，解决了样品可重复性差这一难题。

四、应用领域：
      本技术已达到工业化使用标准，适用于化学气相沉积法制备多类功能及结构薄膜，能为机械、微电子、光学、汽车、模具、电学及航空航天等领域提供需要的各类新型材料。适用范围广，安全性能高。

五、应用前景：
      本技术适用于在一维（1D)、二维（2D)及三维（3D)工件或基体上制备各种功能、结构薄膜。例如700mm*700mm*700mm大尺寸碳化硅类镀膜设备在我国尚无资料报道，本成果填补了该领域的技术空白，在市场竞争中具有据巨大优势，经济效益显著。


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